真空腔體里通入CF4可以做鐵氟龍薄膜界面粘接性的等離子刻蝕機(jī)用：
       鐵氟龍微孔膜具有穩(wěn)定的化學(xué)性能，耐高溫、耐腐蝕，優(yōu)良的抗水、疏油特性，對(duì)高溫、高濕、高腐蝕以及高純氣體中的機(jī)液等均有良好的過濾性能，可廣泛應(yīng)用于冶金、化工、煤炭、水泥等行業(yè)的除塵過濾，是一類耐高溫復(fù)合濾料的薄膜材料。不過它極低的表面活性、突出的不粘滯性使它很難與基材復(fù)合，從而限制了它的應(yīng)用。等離子蝕刻機(jī)又稱真空plasma刻蝕機(jī)機(jī)，平面蝕刻機(jī)，表面處理儀，plasma清洗系統(tǒng)等。

       crf等離子刻蝕機(jī)是干法刻蝕中較常見的1種方式，其工作原理是暴露在電子區(qū)的氣體生成等離子體，生成離子體并釋放出由高能電子組成的氣體，生成等離子體或離子，當(dāng)離子體原子通過電場(chǎng)加速時(shí)，釋放出的力足以緊貼材料或蝕刻表面，使之與表面驅(qū)動(dòng)力結(jié)合。在一定程度上，等離子清洗實(shí)際上是等離子蝕刻過程中的一種輕微現(xiàn)象。干燥蝕刻處理設(shè)備包括反應(yīng)室，電源，真空等部分。部件被送到反應(yīng)室，氣體被引入等離子體，并進(jìn)行交換。       plasma的蝕刻過程本質(zhì)上是1個(gè)活躍的等離子過程。近來，反應(yīng)室里出現(xiàn)了1種擱置方式，使用者可以靈活地移動(dòng)它來配置合適的等離子體蝕刻方法：反應(yīng)性等離子體(RIE)、順流plasma(downstream)和直接plasma(directionplasma)。